西湖大学专题交流会

3.19 上午10点45，西湖大学云谷校区E10-205教室，期待您的莅临。

磁控溅射，快速退火炉，低压化学气相沉积，原子层沉积等设备是半导体前端制备不可或缺的工艺之一。近几年随着半导体科技的飞速发展，传统的工艺设备已无法满足客户更高一步的需求。我们展示的产品在新兴工艺领域均有涉及，希望通过此次研讨会，可以与各领域专家学者深入沟通交流。